平面顯示器（FPD)這些年來(lái)大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場(chǎng)，亦將帶動(dòng)ITO靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。但對(duì)于雜質(zhì)濃度小于[KG2]10原子/厘米[KG2]的探測(cè)器級(jí)超純鍺，則尚須經(jīng)過特殊處理。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫臺(tái)金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會(huì)氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺(tái)金靶材。如今一般采取方法生產(chǎn)ITO靶材，利用L}IRF反應(yīng)濺射鍍膜．它具有沉積速度快．且能控制膜厚，電導(dǎo)率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。
由于具有獨(dú)特的物理化學(xué)性能，當(dāng)代科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，將會(huì)越來(lái)越多的應(yīng)用于國(guó)民經(jīng)濟(jì)中的航空、航天、航海、火箭、原子能、微電子技術(shù)等高科技領(lǐng)域及石油化工、化學(xué)工業(yè)、汽車尾氣凈化等與人類生活息息相關(guān)的領(lǐng)域，并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中起著關(guān)鍵的的作用，因此被譽(yù)為“首要高技術(shù)金屬”、“現(xiàn)代工業(yè)的維生素”“現(xiàn)代新金屬”，發(fā)達(dá)的國(guó)家長(zhǎng)期以來(lái)一直把視為“戰(zhàn)略性物質(zhì)”。主要有四種提純方法在試驗(yàn)室中使用，即真空熔融，真空蒸餾或升華，電遷移和區(qū)域熔煉。
燒結(jié)法： ITO靶材燒結(jié)制作法是在以銦錫氧化物共沉淀粉末或氧化銦和氧錫混合粉末為原料，加入粘結(jié)劑和分散劑混合后，壓力成型，脫脂，然后于1400℃---1600℃燒結(jié)。各種類型的濺射薄膜材料無(wú)論在半導(dǎo)體集成電路、太陽(yáng)能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。燒結(jié)法設(shè)備投入少，成本低，產(chǎn)品密度高、缺氧率低，尺寸大、但制造過程中對(duì)粉末的選擇性很強(qiáng)。
ITO靶制備的透明導(dǎo)電薄膜廣泛應(yīng)用于數(shù)碼相機(jī)、投影電視、數(shù)碼顯示的各種光學(xué)系統(tǒng)中，全球需求量都很大。
王水在溶解了 的溶液中有大量的殘余和 硝基物的存在給后續(xù)提煉或精煉帶來(lái)操作困難或失敗，嚴(yán)重影響的提煉或精煉工藝順利進(jìn)行，嚴(yán)重影響回收率，故王水溶液的濃縮趕硝是緊隨溶解其后的務(wù)必工序！尤其在鉑族金屬的精煉中嚴(yán)重影響水解的順利進(jìn)行和回收率。
王水溶液的濃縮趕硝故名思議是兩段工序，濃縮的目的是將溶液中可在沸騰下?lián)]發(fā)的酸和水盡量揮發(fā)徹底，以便適合趕硝的藥劑和濃度盡量高的無(wú)水硝基物或殘余快速反應(yīng)，以達(dá)到徹底趕硝的目的。
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