平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場，亦將帶動ITO靶材的技術(shù)與市場需求。用于復(fù)印機和打印機等的帶電輥、顯影輥、色粉供給輥、轉(zhuǎn)印輥等都必須具備適當(dāng)?shù)姆€(wěn)定的電阻值。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫臺金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺金靶材。如今一般采取方法生產(chǎn)ITO靶材，利用L}IRF反應(yīng)濺射鍍膜．它具有沉積速度快．且能控制膜厚，電導(dǎo)率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強等優(yōu)點。
金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。
簡單說的話，例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜......鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
應(yīng)用于顯示屏的阻擋層或調(diào)色層，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝等.
背靶材料：
無氧銅(OFC)– 目前常使用的作背靶的材料是無氧銅，因為無氧銅具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性，而且比較容易機械加工。 如果保養(yǎng)適當(dāng)，無氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。
鉬(Mo)– 在某些使用條件比較特殊的情況下，如需要進行高溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲, 所以會使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用金屬鉬作為背靶材料。
以上信息由專業(yè)從事鉑蒸發(fā)鍍靶材報價的東創(chuàng)貴金屬于2024/12/18 13:58:56發(fā)布
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