一般來說，利用濺鍍制程進行薄膜披覆有幾項特點：(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。(2)再適當?shù)脑O(shè)定條件下可將多元復(fù)雜的靶材制作出同一組成的薄膜。(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。(4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制，容易得到的膜厚。(5)較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。(6)濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。靶材保養(yǎng)：為避免在濺射過程中因為不潔凈的腔體導(dǎo)致短路和起弧，有必要階段性的除去濺射軌道中間及兩側(cè)堆積的濺射物，這也有助于用戶可以連續(xù)以大功率密度進行濺射。(7)基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續(xù)表面擴散而得到硬且致密的薄膜，同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結(jié)晶膜。
早期商業(yè)化的鉑鋁涂層的表面相結(jié)構(gòu)可分為兩類：(1) PtAl2連續(xù)分布的單相層；銅陽極泥處理工藝主要有三大類：一類是占據(jù)統(tǒng)治地位傳統(tǒng)火法工藝流程，主要包括：硫酸化焙燒蒸硒后酸浸脫銅-還原熔煉貴鉛-氧化精煉分銀-金銀電解精煉-硒、碲提取幾個步驟。(2) PtAl2+(Ni,Pt)Al雙相層。單相(Ni,Pt)Al鉑鋁涂層一般由低活性包埋滲鋁或CVD制備獲得，已經(jīng)用作商業(yè)（EB-PVD）TBC系統(tǒng)的粘結(jié)層，但其用作粘結(jié)層時，可能導(dǎo)致出現(xiàn)TGO起皺等現(xiàn)象。研究鋁化物（外生長型，單相β-NiAl）、鉑改性鋁化物（外生長型，單相β-(Ni,Al)Pt）和MCrAlY涂層在三種溫度下的循環(huán)氧化行為。
彌散強化復(fù)合材料：在及其合金基體中，以彌散分布的化學和熱力學穩(wěn)定的高熔點或高硬度氧化物、碳化物，或具有特殊性能的微粒作為強化相的復(fù)合材料。通常，彌散強化相粉末粒度為0.01～0.1um，含量小于1％(體積分數(shù))。在及其合金基體材料中彌散分布的不可變形的強化相微粒，阻止基體金屬的位錯運動，限制晶界移動和晶粒長大，使基體金屬的再結(jié)晶溫度、高溫強度和抗蠕變性能明顯提高；(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。同時，由于強化相的加入量。
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