在使用電子照相方法的打印技術(shù)中，已經(jīng)漸進實現(xiàn)高速打印操作、高質(zhì)量圖像形成、彩色像形成、以及成像裝置小型化，并且變得很普遍。色粉一直是這些改進的關(guān)鍵。為滿足上述需要，必須形成精細分配的色粉顆粒，使得色粉顆粒的直徑均一，并且使得色粉顆粒呈球形。銦錫臺金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺金靶材。至于形成精細分配的色粉顆粒的技術(shù)，近已經(jīng)開發(fā)出直徑不超過10nm的色粉和不超過5pm的色粉。至于使色粉呈球形的技術(shù)，已經(jīng)開發(fā)出球形度99%以上的色粉。
陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。根據(jù)電解質(zhì)的種類可分為氯化物熔鹽體系和氟化物-氧化物熔鹽體系電解法，多用于制取以鑭為主的混合稀土金屬以及鑭、鐠、釹等單一稀土金屬。
背靶材料：
無氧銅(OFC)– 目前常使用的作背靶的材料是無氧銅，因為無氧銅具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性，而且比較容易機械加工。 如果保養(yǎng)適當，無氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。
鉬(Mo)– 在某些使用條件比較特殊的情況下，如需要進行高溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲, 所以會使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用金屬鉬作為背靶材料。
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