用于電子照相成像裝置和噴墨成像裝置的導(dǎo)電輥是通過將導(dǎo)電性泡沫彈性體包覆于導(dǎo)電性金屬芯材的外周而制成的。所述導(dǎo)電性泡沫彈性體是通過將導(dǎo)電性材料分散在普通彈性體中以使該彈性體具有導(dǎo)電性，并使用空氣或者氮氣對彈性體進行機械發(fā)泡、或者使用發(fā)泡劑進行化學(xué)發(fā)泡而形成的。在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。
導(dǎo)電輥，所述導(dǎo)電輥的電阻率幾乎不會隨著環(huán)境變化而改變。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種導(dǎo)電輥，該導(dǎo)電輥包括導(dǎo)電性芯材，以及包覆于所述導(dǎo)電性芯材的外周的泡沫彈性層。
為了形成高質(zhì)量圖像，聚合色粉被廣泛使用，以代替慣常使用的粉碎色粉。聚合色粉允許點的，從而出色地由數(shù)字信息獲得印刷物，由此得到高質(zhì)量的印刷物。0003和改進形成精細分配的色粉顆粒、使色粉粒徑均一、使色粉顆粒呈球形的技術(shù)、以及從粉碎色粉到聚合色粉的轉(zhuǎn)變相一致地，在電子成像裝置比如激光束打印機等的成像裝置中，需要開發(fā)出一種導(dǎo)電輥，其賦予色粉以高靜電充電特性。稀土金屬制取(preparationofrareearthmetal),將稀土化合物還原成金屬的過程。
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；現(xiàn)應(yīng)用較普遍的是溶劑萃取法，它是工業(yè)分離高純單一稀土元素的通用工藝。較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，陶瓷化合物等。
任何金屬都不能達到純?！俺儭本哂邢鄬Φ暮x，是指技術(shù)上達到的標(biāo)準(zhǔn)。
由于技術(shù)的發(fā)展，也常使 “超純”的標(biāo)準(zhǔn)升級?！俺儭钡南鄬γ~是指“雜質(zhì)”，廣義的雜質(zhì)是指化學(xué)雜質(zhì)（元素）及“物理雜質(zhì)”（晶體缺陷），后者是指位錯及空位等，而化學(xué)雜質(zhì)是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。
但只當(dāng)金屬純度達到很高的標(biāo)準(zhǔn)時（如純度9以上的金屬），物理雜質(zhì)的概念才是有意義的，因此目前工業(yè)生產(chǎn)的金屬仍是以化學(xué)雜質(zhì)的含量作為標(biāo)準(zhǔn)，即以金屬中雜質(zhì)總含量為百萬分之幾表示。
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